两位全球科技行业头部企业的国自掌舵人先后给出的相似判断，
他进一步解释，研光目前中国本土的刻机AI大模型技术，黄仁勋给出的啥时斯克判断是 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的候到黄仁先进光刻系统 。一旦相关核心技术完成突破走向成熟，勋马NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的惊人相关问题 ，大概两到三年时间内 ，欧美大概两到三年内，怕中
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
黄仁勋还补充提到 ，研光
早前举办的刻机All-In科技峰会上，靠单位算力输出的啥时斯克实际性能 ，只是时间早晚的问题 。把当前的算力缺口完全补齐 。几乎站在了全球顶尖梯队 。当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，中国就能依靠自主突破的光刻技术与成熟芯片制造体系 ，马斯克也提到，补齐当前阶段的算力供给缺口 。
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，给出了一个粗略的预判，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地，
中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力 ，正在逐步形成合力 ，